黄金展示位
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发明，是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案。发明与实用新型和外观设计一起，构成我国专利法所保护的对象。《专利审查指南》指出，技术方案，是指对要解决的技术问题所采取的利用了自然规律的技术手段的集合。技术手段通常… -
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整个项目知产包干服务是在整个项目运行期间的所有知产情况的包干服务。针对小型项目，知产服务项目涉及计较少，在整个项目运行期间，包干价格在3万-5万/个，以项目初始至结题，整个运行时间在2年以内计；中型项目，知产服务项目涉及适…
气相沉积供应信息
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昆山玖豪镀钛 金属表面处理PVD镀钛特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。金属表面处理PVD镀钛种类：氮化钛(TiN),镀铬 -
oxford-instruments ECVD-等离子体增强化学气相沉积 |等离子体化学气相沉积（PECVD）Key features 主要特点射频驱动（兆赫兹和/或千赫兹）的顶电极；底 -
产品型号：CY-T1200-150ⅢC 主要用途：该型号荧光粉烧结管式炉主要用于荧光粉烧结，也可用于较大工件的气氛保护退火。 订购咨询 -
一、设备简介 该设备是一台超高真空多功能磁控溅射镀膜及PECVD（射频增强等离子气相沉积）设备。在PECVD沉积室主要用射频增强等离子气相沉积的方法制备各种薄膜。 本设备的磁控溅射室和PE -
产品介绍：多舱体式等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）/蚀刻（ETCH）系统、 IL-50多舱体式PEVCD/ETCH系统 IL-50多舱体式等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）/蚀刻（ETCH -
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一、设备简述 这是一台由电子束热蒸发镀膜室、进出样室组成的双室超高真空镀膜设备，主要部分包括：镀膜室的分子泵+吸附泵超高真空抽气系统、进出样室的分子泵高真空抽气系统、E型电子枪、样品传递机构、真 -
产品介绍：IL装载互锁式（Load Lock）感应耦合等离子（ICP）处理系统、感应耦合等离子（ICP）蚀刻/沉积等离子系统 高性能深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVC -
美国CORTEC出品Cor-Pak可拉伸防锈膜，cortec专利，300%拉伸率。Cor―Pak可拉伸防锈膜是一种高科技防锈包装材料，专利产品。拉伸率可达300%，具有干燥和气相防锈双重功能。当金属零
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