一、设备简述
这是一台由电子束热蒸发镀膜室、进出样室组成的双室超高真空镀膜设备,主要部分包括:镀膜室的分子泵+吸附泵超高真空抽气系统、进出样室的分子泵高真空抽气系统、E型电子枪、样品传递机构、真空测量、膜厚测试、电控系统等。
电子束热蒸发镀膜室采用E型270°电子枪,用于镀制各种单层膜、多层膜膜系,可用于镀制金属材料及高熔点(难熔)材料。
二、设备主要技术特点
1、设备的电子束蒸发室采用前开门结构,便于电子枪的安装与检修。镀膜室内壁加装可拆卸不锈钢防污衬板,便于拆装清洗维护。
2、电子束镀膜室:
配一台超高真空6KW E型270°电子枪,配四穴水冷坩埚,坩埚为无氧铜材料,配PLC控制系统和液晶触摸屏,系统智能控制水平高,工作稳定可靠,自动控制坩埚选择定位。
为了保证镀膜的工艺性(预蒸发、多层膜、掺杂膜、防止交叉污染和干扰等),电子枪坩埚配备挡板。
电子枪室观察窗加装铅玻璃,起到防护作用。
3、配装超高真空闸板阀、手动高真空挡板阀、手动挡板、微机型复合真空计、电脑温控仪等。
4、基片可倾斜、可旋转、可升降,变于镀膜工艺参数的调整和取得。
5、由于采用了超高真空密封技术,极限真空度可达2X10-6 Pa,可保证更高的镀膜纯净度,提高镀膜质量。
6、恢复工作背景真空时间短,从大气到工作背景真空(6×10-5 Pa)时间30分钟左右(充干燥氮气)。
7、系统停泵关机12小时后,测系统真空度≤10Pa。
8、超高真空密封主要采用如下技术:玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等;整机除真空室门用氟胶圈外均采用金属密封技术,真空管路用不锈钢金属波纹管路。运动部件的密封,采用磁力耦合动密封技术。真空规采用刀口金属密封结构的金属规。
9、玻璃观察窗带内衬玻璃挡板,可拆卸清洗;
10、真空抽气管路上加装冷阱和过滤器,然后经机械泵外排。
11、配晶体膜厚测试仪,实时监控镀膜过程。
12、系统自动监控和保护功能强,包括缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护等。
三、工作条件及主要技术参数
1 、实验室工作环境条件:供电 ~380V三相五线供电系统(容量10KW);
冷却水循环量:0.3M3/H(用去离子水);
冷却水温度20℃~30℃
工作环境温度:10℃~35℃,
设备占地面积:4m×1.5m。
气动阀门供气压力:0.4~0.6MPa。
质量流量控制器输入压力: 0.05~0.2MPa。
2、镀膜室:极限真空:2X10-6 Pa;
工作背景真空:5×10-5 Pa;
样品交接后恢复工作真空时间30分钟。
系统停泵关机12小时后,测系统真空度≤10Pa。
3、基片转动、升降、角度:手动调整,刻度显示。
4、基片尺寸:≤Ф51mm。
5、电子枪电源6kw,电子束偏转角270o ,四穴水冷无氧铜坩埚,坩埚可电动换位,配PLC电脑及液晶触摸屏。
6、膜厚测试仪配双路水冷探头。
7、进出样室样品储存数量:4件。
8、系统检测保护功能:缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空检测与保护。