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供应阴极反应溅射cathode reactive sputterer

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上海续波光电技术有限公司
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阴极反应溅射设备别用于制备氮化铝薄膜、电极Al膜制备

气路：Ar，N2，配带MFC

阴极：4英寸磁控管

能源供应：1.5kW 直流

靶材：采用Al靶

衬底偏置：RF 300W

样品台：可接纳一个4英寸衬底

衬底加热到800℃

预真空送样室

真空泵：次级泵+低温泵

全自动、半自动、手动模式

支持远程维护和监控

典型用户：格拉斯哥大学、法国科学院

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