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镀银、仿金镀层添加剂

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苏州欧德美化工有限公司
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特强UTTOP酸性光亮镀铜

镀液组成及操作工艺

硫酸铜 200-220/

纯硫酸 55-70/

氯离子 70-120毫克/

开缸剂UTTOP-MU 6-7毫升/

主光剂UTTOP-A 0.4-0.6毫升/

主光剂UTTOP-B 0.4-0.5毫升/

温度 20-35℃

阴极电流密度 1-6安培/平方分米

阳极电流密度 0.5-2.5安培/平方分米

阳极 磷铜角(0.03-0.06%磷)

电压 1.5-6

搅拌方法 空气或机械搅拌

消耗量:

开缸剂UTTOP MU 30-80毫升/1000安培小时

主光剂UTTOP A 60-100毫升/1000安培小时

主光剂UTTOP B 30-80毫升/1000安培小时

用途和特性

1. 快速出光,填平能力特强,低电位区也能快速填平;

2. 走位效果好,低电位区不容易发黑或发雾;

3. 镀液稳定,容易操作控制;

4. 镀层柔韧性好,没有针孔或麻点,具有良好的耐蚀性能;

5. 镀层更为清亮,特别适合作为镀银、仿金等的低铜镀层。

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