TG-S4型双室CVD沉积与PVD磁控溅射镀膜机

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产品品牌：中科唯实

产品型号：TG-S4型

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　　本机有两个真空室，一个作CVD沉积用，另一个作PVD磁控溅射镀膜用，真空室为小型前开门箱式结构，两个真空室尺寸：Φ400mmX400mm。真空度：2X10-4Pa。

　　主要配置：CVD室沉积部位加温达900℃，反应气体发生装置加热达300℃±1℃。PVD室装两个RF{或DC}磁控靶{Φ75或Φ100}，基片加热温度650℃，基片盘可转动。本机可镀各种膜（单层或多层），包括功能膜。抽气系统配F-250分子泵，2X-30机械泵，两室共用一套抽气系统。

　　该机可供大专院校、科研所和工厂作教学和科研等用

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