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1.原位式激光*体分析系统产品特性
1.无气体交叉干扰，特定组分气体只在特定波长下存在吸收谱，具有较强的气体选择性；
2.独特的光路设计，能有效消*现场振动对光路的影响；
3.测量方式灵活，既可适应于高达1000℃高温下的原位测量，亦可配备旁路采样系统对气体分析监测；
4.光强补偿算法，保证仪器在高粉尘、高颗粒物的工况条件下仍准确分析监测；
5.多种测量方式，直接吸收，结合专业的谱图分析方法，保证测量结果的灵敏度和线性范围；
6.温度、压力补偿，外部温度、压力输入或内置温度、压力传感器，结合优化的补偿算法，提高测量准确性；
7.采用分布式微处理技术，分析速度快，响应时间≤1s。
2. 原位式激光*体分析系统技术指标技术指标测量技术TDLAS测量组分HF、HCL、O2、CO、CO2、H2O、O2、NH3、CH4等测量准确度±2 F.S.,±4 F.S.，±6%F.S.测量范围最小量程(1) 最*量程(1)NH30~10ppm 0~5000ppmHF0~2ppm 0~2000ppmHCL0~10ppm 0~3000ppmCO/CO20~2000ppm 0~100vol%H2O0~10ppm 0~3000ppmO20~3vol% 0~100vol%防护等级主机IP20，发射、接收单元IP66IP65激光 分析仪IP66，二次仪表IP65工作条件电源220VAC，50Hz吹扫气0.3~0.8MPa,15L/min分析仪工作温度0-95%RH,-10℃-50℃光学端工作温度5-95%RH,-40℃-65℃不结露气体压力25~200kPa接口信号数字通讯接口RS485/以太网模拟量输入8路4-20mA4路4-20mA2路4-20mA模拟量输出8路4-20mA4路4-20mA2路4-20mA继电器输出8路24V/1A5路24V/1A3路24V/1A
3.应用领域应用行业测量对象电解铝厂等HF，HCL，NH3尾气*放监测燃煤电厂烟气脱硝工艺的NH3逃逸监测钢铁行业转炉，高炉，喷煤等CO，CO2，O2监测石化，化工行业腐蚀性气体HF，H2S和微量H2O监测垃圾焚烧HF，HCL，CO，CO2垃圾填埋H2S，NH3烟草加工CO，CO2废水处理H2S环境空气H2S，NH3，CO，CO2监测工业工艺流程H2O，CO2，O2监测
