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上海伯东代理美国原装进口 KRI RFICP 140 是一款紧凑的有栅极, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中， RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.
KRI RFICP 140 技术参数:
| 阳极 |
电感耦合等离子体 1kW & 1.8 MHz 射频自动匹配 |
| 最大阳极功率 |
1kW |
| 最大离子束流 |
> 500mA |
| 电压范围 |
100-1200V |
| 离子束动能 |
100-1200eV |
| 气体 |
Ar, O2, N2,其他 |
| 流量 |
5-40sccm |
| 压力 |
< 0.5mTorr |
| 离子光学, 自对准 |
OptiBeamTM |
| 离子束栅极 |
14cm Φ |
| 栅极材质 |
钼, 石墨 |
| 离子束流形状 |
平行,聚焦,散射 |
| 中和器 |
LFN 2000 or RFN |
| 高度 |
25.1 cm |
| 直径 |
24.6 cm |
| 锁紧安装法兰 |
12”CF |
KRI RFICP 140 应用领域： 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD, 溅镀和蒸发镀膜 PC 离子溅射沉积和多层结构 IBSD 离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国中国总代理. 若您需要进一步的了解 , 请联络 伯东: 叶小姐 1391-883-7267 上海伯东版权所有, 翻拷必究！
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