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上海伯东代理美国 , 推出 RF2100ICP Plasma Source 射频等离子体源及配套控制器, RF2100 等离子体放电, RFICP 在 2MHz, 电子自动匹配, 固定匹配网络. RF2100ICP 适用于预清洁, 氧化和氮化处理, 辅助沉积, 以及各类半导体材料, 磁性金属等的制备.
KRi RF2100 ICP 特性
通过 RFICP 放电激活等离子体: 产生 100% O₂, N₂ 反应等离子束
宽束发散等离子束(准中性): 大出口平面孔径, 提高覆盖范围和均匀性
输出低能量离子: 最大限度地减少衬底损坏
无提取栅网: 减少复杂性, 降低维护成本和潜在污染源
可靠的等离子点火电路: 专用电子源仅在等离子体启动时开启
自动控制和调节: 自动排序和射频阻抗匹配
无水冷却: 消除真空中水泄漏的风险
适用于不同的轰击距离: 一般为 15 至 45厘米
KRi RF2100 ICP 参数
| Dishcharge |
电感耦合 |
| RF discharge power |
600W |
| 输出电流 |
> 500mA (取决于功率,压力和气体) |
| 通 Ar 能量范围 |
5-50V (取决于功率和压力) |
| 等离子尺寸@源打开 |
14cmφ |
| 离子束形状 |
发散 |
| 点火 |
电子源 |
| 气体 |
Ar, O₂, N₂, H₂/Ar blend |
| 压力 |
0.5-10mTorr (取决于气体种类) |
| 气体流量 |
5-60sccm (取决于抽速, 气体, 压力和功率) |
| 冷却 |
无水冷却 |
| 一般高度 |
9.25” (23.5cm) |
| 直径 |
7.675” (19.5cm |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国中国总代理.
若您需要进一步的了解 , 请联络 伯东: 叶女士 1391-883-7267 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士 1 上海伯东版权所有, 翻拷必究！
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