产品分类
操作模块(室)
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模块组成:共溅射沉积模式
盒式室容量:最大可容纳6寸晶片
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源
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溅射源:3~6寸磁控溅射源(特高压&高压类型)
晶片均匀性: 6寸直径的晶片 误差±3%
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衬底架
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供热能力:可达500℃(均匀性±5%)
Z方向运动行程: 0 ~
转速:可达50 r/min
射频功率供应:
7个1000 W射频电源
5个2000 W直流电源
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泵系统
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最大承受压强:PM1,2,3 ≤ 1.0 X 10-7Torr, PM4 ≤ 5X 10-8托
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系统控制
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操作系统:
基于人机界面软件/ PLC过程控制,
完全自动化的系统,安全联锁系统
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系统性能
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可实现分离4室内溅射沉积同步进行
通过射频/直流切换开关可以自由变换能源供应方式
多达13个射频/直流磁控溅射来源
6寸晶片有良好的薄膜均匀性
完全自动化的操作系统
可根据客户要求进行特殊配置
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程序特性
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显示集群溅射系统和工艺条件
完全自动化控制系统
对于仪表和用户设有安全联锁系统
用户授权注册模式
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