上海市机械设备供应信息
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上海伯东代理美国 KRi 考夫曼品牌离子源, 推出 RF2100ICP Plasma Source 射频等离子体源及配套控制器, RF2100 等离子体放电, RFICP 在 2MHz, 电子自动匹配, 固定匹配网络. 离子源 RF2100ICP 适用于预清洁, 氧化和氮化处理, 辅助沉积, 以及各类半导体材料, 磁性金属等的制备.
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
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上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.
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上海伯东美国 HVA 13000系列层流闸阀真空闸阀以一个层流端口嘴为特征, 这样可以有效的从气流中密封阀动装构.
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上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
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上海伯东美国 HVA 长寿命严厉过程真空闸阀 71000 系列是专为最苛刻的真空环境而设计.
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美国 HVA 百万周期真空闸阀 21200 系列特别适合 1x10- 9 mbar 高真空和烘烤温度不超过 150°C的应用。超长使用寿命1,000,000 启动次数。清洁和高密封性保证 HVA 进口阀门与低温泵、涡轮分子泵,离子泵等完美联用。
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上海伯东美国 HVA 超高真空闸阀 81000 系列, 阀门主体材质铝, 适用于真空度 1X10 - 7 mbar 和烘烤温度不超过 150°C 的高真空应用. HVA 真空闸阀 81000系列专为系统集成设计研发, 广泛应用于半导体, 太阳能, LED / FPD, 涂料, 镀膜和生物制药.
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上海伯东 HVA 3位真空闸阀 21700 系列适用于刻蚀, CVD, 真空镀膜和其他需要压力控制工艺的行业.
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